爆
陳麗珠/核稿編輯ASML與英特爾本週宣布,達成新一代極紫外光微影設備(High NA EUV)的重要里程碑,其最先進High NA EUV曝光機Twinscan EXE:5000的主要元件,已經啟動,也就是首度打開光源,使光線到達晶圓上的抗蝕層,並開始運作,這表示光源和反射鏡已正確對準。