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陳麗珠/核稿編輯荷蘭半導體設備巨擘艾司摩爾(ASML)近日交付第三代EUV曝光機「Twinscan NXE:3800E」,此設備用於生產尖端晶片,包括未來幾年的3奈米、2奈米晶片。科技媒體《Tom's Hardware》報導,ASML上週交付了第三代EUV曝光機「Twinscan NXE:3800E