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高佳菁/核稿編輯全球最大晶片微影設備商艾司摩爾(ASML)發言人表示,公司的2個最大客戶台積電和英特爾將在今年底前獲得最新的高數值孔徑極紫外光(High-NA EUV)曝光機。《彭博》報導,台積電和英特爾皆已下單這款最新的High-NA EUV曝光機,英特爾預計12月底將把首台機器運送到奧勒岡州的工