吳孟峰/核稿編輯由於中國半導體製造業無法獲得荷蘭晶片設備商ASML的高階極紫外EUV曝光機等設備,一份新報告指出,華為正在上海興建新研發中心,開發類似ASML的先進晶片製造設備。中芯國際和華為可能已經成功開發5奈米製造技術,但如果繼續依賴現有的深紫外DUV曝光機,中國公司將無法逐步突破技術天花板的限
罕見打出悲情牌! 是真遇困境還是放煙霧彈歐祥義/核稿編輯近日中國舉辦了一場行動運算網路大會上,中國華為(Huawei)雲端服務執行長張平安罕見的表態,直指因美國制裁行動,導致華為無法採購製造3及5奈米晶片的設備,並為其擔憂。他強調,因生產3及5奈米晶片需要曝光機技術,而中國目前尚不具備,因此目前華為
即將邁入第三季,晶圓代工除了台積電(2330)受惠人工智慧(AI)晶片旺,加上大客戶蘋果推出新產品,帶動先進製程呈現熱況之外,聯電(2303)、世界先進(5347)、力積電(6770)、茂矽(2342)等晶圓代工廠,也較第二季回溫,但受到中國成熟製程大量開出,殺價競爭,第三季旺季恐不如預期。