高佳菁/核稿編輯全球最大晶片微影設備商艾司摩爾(ASML)發言人表示,公司的2個最大客戶台積電和英特爾將在今年底前獲得最新的高數值孔徑極紫外光(High-NA EUV)曝光機。《彭博》報導,台積電和英特爾皆已下單這款最新的High-NA EUV曝光機,英特爾預計12月底將把首台機器運送到奧勒岡州的工
業界傳出台積電重新調整2024到2028年建廠計畫,在高雄廠進度方面,除已公布的3座廠之外,正評估規劃P4/P5廠。高市對此謹慎回應,經發局長廖泰翔強調,市府與台積電雙方持續保持密切溝通,目前共同協力,朝2025年楠梓園區先進製程量產目標前進。