吳孟峰/核稿編輯美媒PhoneArena報導,中國最大的晶片代工廠中芯國際今年將為華為生產5奈米晶片,而且不需使用到荷蘭ASML公司製造的極紫外線(EUV)曝光機,令人震驚!另根據《韓國商業報》報導,中芯似乎能夠使用在實施制裁之前購買的舊深紫外線 (DUV)曝光機來製造5奈米晶片。這對中芯和華為來說
吳孟峰/核稿編輯日本佳能週二(30日)表示,客戶對新型奈米壓印曝光機的興趣超出了公司的預期,佳能正大力推動縮小與荷蘭晶片製造設備商ASML的差距。佳能去年10月推出新型奈米壓印曝光機,可將電路圖案直接壓印到晶圓上。公司強調這些工具的低成本和低功耗,使其前景成為業界爭論的議題。
新北市的112學年度國中技藝競賽,將在3月1日到7日登場,預計將有1500名好手同場競技,國立台灣師範大學協助學科專業命題,實作術科則有18所大專及技高學校參與設計;市府教育局長張明文今(15)日與台師大攜手簽署「適性頂尖國中技藝教育合作備忘錄」,18所承辦學校也邀請新北市國中生報名參加競賽。
美中兩大強權尋求在今年穩固關係之際,傳出涉嫌擔任中國間諜的華裔美國海軍士官遭判刑。近年來,美中關係因台灣、南海等一系列問題而變得緊張,不過中國外長王毅九日強調,美中關係已「止跌回穩」。美國司法部表示,華裔美國海軍士官趙文恆(譯音)向中國情報官員提供敏感軍事資訊,經聯邦法院審理後,八日被判處廿七個月的
瑞典媒體Gamingdeputy 27日報導,日本半導體設備巨頭佳能(Canon)十月推出的奈米壓印裝置(NIL)FPA-1200NZ2C不僅可生產2奈米製程晶片,其耗電量與價格皆為對手艾司摩爾(ASML)深紫外光機(EUV)的十分之一,為小型半導體製造商開啟生產先進晶片的新途徑。
ASML全球市佔62% 佳能31% 尼康7%日本2大廠尼康(Nikon)和佳能(Canon)曾在1990年代之前領導曝光機市場,但在最尖端的EUV(極紫外光)設備研發大戰中,荷商艾司摩爾(ASML)迅速竄起,幾乎壟斷了最先進的曝光機市場,EUV曝光機在2010年代後期開始實用化,至今全球仍只有ASM
日商佳能(Canon)上周發表半導體先進製程新機器「奈米壓印」(Nanoprinted lithography),根據分析師告訴電子工程專輯雜誌《EE Times》,佳能的新型奈米印刷曝光工具機(NIL)需要數年時間才能與荷商ASML提供的極紫外光EUV曝光設備相媲美,用來製造世界上最先進的半導體。
日本佳能公司已開始銷售奈米壓印(Nanoimprint lithography)半導體製造系統設備,試圖與業界領導者荷商ASML和日商Nikon競爭,搶佔半導體製造工具市佔率。佳能新型晶片製造機可以使用極紫外微影 (EUV) 生產相當於5奈米規模的電路,EUV由行業領導者ASML主導。佳能在周五(1
美國司法部新聞稿指出,美國海軍華裔士官「趙文恆」(Wenheng Zhao,音譯)認罪,坦承接受賄賂,提供資訊給中國情報人員。根據新聞稿,26歲的趙文恆來自加州蒙特瑞公園市(Monterey Park),通過安全背景調查,服役於洛杉磯北方的文杜拉郡(Ventura County)海軍基地。蒙特瑞公園
23項半導體設備列管制《日經新聞》報導,日本昨正式將二十三項先進半導體製造設備列入出口管制名單,在防止晶片技術落入中國上與美國步調一致。日本國際問題研究所研究員高山佳明說:「至少在中短期內,中國幾乎無望取得生產尖端半導體的設備。」報導指出,日本新增管制品包括:形成電路圖案與檢測晶片所需的設備,以及與
《日本經濟新聞》報導,日本23日起將把先進半導體製造設備列入其出口管制名單,此舉將使東京與美國在防止晶片技術落入中國手中的措施上維持一致。日本國際問題研究所研究員高山佳明(Yoshiaki Takayama)說:「至少中短期內,中國幾乎無望取得生產尖端半導體的設備」。
印度在6月2日晚間7點發生重大事故,一輛火車撞上貨物列車後脫軌滑行,接著迎面撞上另一輛火車,造成近300人死亡、千人受傷,成為印度本世紀最慘重鐵路意外,現事故原因出爐,竟是在維修時將信號電路接錯,將載人列車引導到貨物列車的軌道上。據《路透》報導,2日晚間開往清奈的中央科羅曼德快車(Shalimar-
根據美國司法部發布的聲明,麻州萊星頓市的中國裔居民于浩洋(Haoyang Yu),因佔有前雇主亞德諾半導體(ADI)擁有和開發的微晶片原型設計,6月1日被判入獄半年;于洋涉嫌盜取的晶片用於航太和國防相關應用。45歲的于浩洋被判處6個月監禁,3年的獄後監督(supervised release),在此
47歲王月雲在幼獅工業區某冷凍空調製造業任職助理工程師,有感於努力精進技術,才能在職場立於不敗之地,靠著參加勞動部勞動力發展署桃竹苗分署辦理的在職進修課程,成功考取電腦繪圖、冷凍空調等4張專業證照,而她認真積極的態度也被公司認可,一路由助理工程師逐步晉升至生產副課長,薪資翻倍成長。
112學年度四技二專統一入學測驗今日登場,約有8萬名考生報名。全教會「電機與電子群電機類專二」評論教師群解析,今年命題方向符合課綱,但題目偏難,恐讓中上程度學生不易於時間內完成題目。評論教師包括台中市立霧峰農工老師張嘉元、國立秀水高工老師曹正勳、國立嘉義高工老師譚振台。
楊雅雲、李旭弘如果你在業界工作多年,有些資歷,可能有這樣的經驗吧,一位野心勃勃的老闆找你成立或加入新事業單位(BU),你興沖沖地去了,頭幾年還算不錯,雖然公司各事業單位相互掣肘,但仍有老闆力挺,老闆還大張旗鼓辦了不少記者會或發新聞稿以明心志。但是幾年之後,若新BU有些績效,公司內一幫老臣就開始覬覦、
富碼科技股份有限公司鄧姓前總經理,涉嫌把富碼公司一款條碼標籤印表機的原始碼檔案、主機板電路布局設計圖、電子電路圖或功能圖等設計圖營業秘密,洩漏給富碼公司的客戶即中國珠海佳博科技股份有限公司,新北地檢署今日依違反營業秘密法起訴鄧男。檢方調查,鄧男從2014年10月起至2019年4月間,任職於富碼科技股
台北市補教協會今(22日)分析111年國中教育會考自然科,題數較往年減少,且零計算題,並且每題都包裝過生活與素養等情境,往年勤奮練習題目的學生能否適應待觀察,估A++容錯1到2題,A+容錯3題,拿A不好估,約7到8題,更直言未來幾年考試趨勢也是零計算。
微影設備是利用光線的波長來加工精密尺寸的晶片,又稱蝕刻機、光刻機;波長不同效率差很大。最早是使用汞燈產生的紫外光源,再來是深紫外光源(Deep Ultraviolet;DUV),波長可從365奈米縮減到193奈米;最新技術的極紫外光源(Extreme Ultraviolet;EUV),更將波長縮減至
極紫外光(EUV)光刻機是新一代晶片生產設備的顯學,對一年超過565億美元(約台幣1.65兆元)的先進製程晶片設備市場產生莫大影響。儘管荷蘭艾司摩爾(ASML)是當今唯一有能力量產EUV光刻機設備的公司,但日本晶片設備製造商間的競爭卻越演越烈,他們爭的是要當EUV周邊設備的全球龍頭。