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《EE Times》報導,艾司摩爾(ASML)再度宣佈新曝光機計畫,預定2030年推出的Hyper-NA極紫外光機(EUV),將縮小最高電晶體密度晶片的設計限制。艾司摩爾前總裁Martin van den Brink宣佈,約在2030年將提供新的Hyper-NA EUV技術。目前仍處於開發初期階段的