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吳孟峰/核稿編輯荷蘭晶片製造設備大廠艾斯摩爾(ASML)憑藉其高數值孔徑極紫外線(High-NA EUV)曝光機超越了自己的晶片製造密度紀錄,並可將製造速度提升150%。ASML前總裁、目前擔任顧問職務的Martin van den Brink在imec ITF World 2024 會議上向與會者