吳孟峰/核稿編輯艾司摩爾(ASML)宣布最新型High-NA Twinscan EXE曝光機每台售價約為3.8億美元(台幣120億元),相較之下,現有的Low-NA Twinscan NXE EUV系統成本約為1.83億美元(台幣58億元),不過,實際價格取決於特定的型號和相關配置。
吳孟峰/核稿編輯英國《經濟學人》報導,從消費性電子產品到汽車,中國一次又一次地模仿外國尖端技術,然而事實證明,半導體業自主發展更難掌握。雖然中國正悄悄減少對外國晶片技術的依賴,但晶片產業在保密的情況下運作,任何突破和挫折往往被視為國家機密而撲朔迷離。
吳孟峰/核稿編輯豐田汽車週二(13日)表示,在與操縱碰撞安全測試相關的不當行為被曝光後,小型汽車子公司大發汽車的社長和董事長將辭職。豐田汽車在聲明中表示,大發社長奧平總一郎(Soichiro Okudaira)將辭職,由豐田拉丁美洲和加勒比地區執行長井上雅弘(Masahiro Inoue)接替,自3
陳麗珠/核稿編輯美國對中國晶片禁令不斷收緊,中國中芯國際過去幾個月似乎持續向高階晶片邁進。不過,外媒認為,中國想實現晶片自給自足仍面臨一些重大挑戰,尤其是中芯無法買到艾司摩爾(ASML)EUV曝光機,僅能使用舊設備製造先進晶片,勢必面臨成本高及良率低等2大挑戰,長期可行性存疑。