吳孟峰/核稿編輯日本佳能週二(30日)表示,客戶對新型奈米壓印曝光機的興趣超出了公司的預期,佳能正大力推動縮小與荷蘭晶片製造設備商ASML的差距。佳能去年10月推出新型奈米壓印曝光機,可將電路圖案直接壓印到晶圓上。公司強調這些工具的低成本和低功耗,使其前景成為業界爭論的議題。
吳孟峰/核稿編輯日經新聞報導,日本電信營運商NTT和美國晶片製造商英特爾,將共同開發大規模生產下一代半導體的技術,透過利用光學技術大幅降低功耗。韓國SK海力士預計也將參與此項計畫,三方將透過合作研發尖端戰略技術來對抗中國。日本政府將提供約450億日圓(台幣95億元)的支持。