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吳孟峰/核稿編輯晶片製造商最大的設備供應商ASML週三(17日)表示,已將其最新的「高數值孔徑」(High NA)極紫外光EUV曝光系統之一運送給第2家客戶。路透報導,ASML已在去年2月至今年1月,向英特爾提供了一款高NA工具,但沒有透露第二個客戶的身份。潛在客戶可能包括為輝達和蘋果的合約晶片製造